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化学镀层的微观结构研究方法探讨
Research Method on Microstructure of Electroless Plating
陈儒军1,2, 伍翠兰2, 洪小丽1, 潘建新
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作者单位:1. 长沙航空职业技术学院, 湖南 长沙 410124; 2. 湖南大学 材料学院, 湖南 长沙 410082; 3. 湖南科技职业学院, 湖南 长沙 410004)
中文关键字:化学镀; 微观结构; 研究方法; XRD; TEM
英文关键字:electroless plating; microstructure; research method; XRD; TEM
中文摘要:分别采用XRD和TEM分析方法对化学镀Ni-B合金镀层不同状态下的微观组织结构进行了比较研究。结果表明,Ni-B合金镀层主要为非晶态结构,随热处理温度升高,镀层逐步由非晶态向晶态转变。TEM分析表明,Ni-B合金镀层为非晶与纳米晶组合的混晶态结构,非晶镀层经350 ℃热处理以后转变为晶态镀层。比较研究发现,化学镀Ni-B合金镀层微观结构的分析必须采用XRD分析和TEM分析相结合的方式,才能得到准确的分析结果。
英文摘要:The microstructure of electroless Ni-B deposit in different states was comparative researched using XRD and TEM. The results show that Ni-B alloy plating exhibits a non-crystal structure, and will transfer gradually to crystal structure with the increase of heat treatment temperature. Ni-B alloy plating exhibits a mix crystal structure composed of nano-crystal structure and amorphous structure, and the non-crystal structure transfers into crystal structure, while the temperature of heat treatment reaches 350 ℃. By comparison, it is shown that only using XRD and TEM analysis together while researching the microstructure of electroless Ni-B alloy plating, it is possible to obtain the correct results.
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国内统一连续出版物号:61-1133/TG |国内发行代码:52-94 |国际标准出版物号:1001-3814 |国际发行代码:SM8143
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